研磨、抛光带(膜)

产品名称

研磨、抛光带(膜)

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产品描述

  精密抛光膜该系列产品采用先进的精密涂布技术,将微米/纳米级磨料(金刚石、氧化铝、碳化硅、二氧化硅、氧化铈等)与新型高分子材料均匀分散后,涂覆于高强度柔性薄膜基体表面而成。

 

  产品特征:

  1、使用的磨料经过专门的处理,完全去除超尺寸颗粒,不会引起划伤。

  2、采用专有分散及涂布工艺确保磨粒能够均匀地涂布于带基上。

  3、全过程质量控制,确保产品的一致性。

  4、具体良好的柔韧性和高的强度,可最大限度地提高研磨质量。

  5、具有较高的磨削力,抛光效率高。

  6、耐用性良好,使用寿命长,可大大降低生产成本。

  7、适用于干态、湿态等多种抛光模式。

 

  可供规格:

目数

600

800

1000

1200

1500

2000

2500

3000

粒径/um

30

20

16

15

12

9

6

5

目数

4000

6000

7000

8000

10000

15000

20000

30000

粒径/um

3

2

1.5

1

0.5

0.3

0.2

0.1

 

磨料种类

金刚石(D)、碳化硅(SC)、氧化铝(AO)、氧化硅(SO)、氧化铈(CO)

规格

圆形研磨片:Φ70mm、Φ110mm、Φ127mm、Φ203mm

方形研磨片:114mm*114mm、152mm*152mm、228mm*228mm

  注:除以上规格外,可根据客户的需求定做各种规格产品。

 

  应用领域:

  1、光纤连接器、耦合器、衰减器的抛光。

  2、陶瓷插芯、塑料插芯、玻璃毛细管的研磨抛光。

  3、光学镜头、光学晶体、蓝宝石、光学玻璃、LED、LCD的研磨抛光。

  4、磁头、硬盘的表面处理。

  5、半导体材料(砷化镓、磷化铟等)的研磨抛光。

 

  精密抛光带

  精密抛光带系列产品采用先进的精密涂布技术,将微米或纳米级磨粒(金刚石、碳化硅、氧化铝、氧化铈等)与新型高分子材料均匀分散后,涂覆于高强度柔性薄膜基体表面而成。

 

  产品特征:

  1、使用的磨料经过专门的处理,完全去除超尺寸颗粒,不会引起划伤。

  2、采用专有分散及涂布工艺确保磨粒能够均匀地涂布于带基上。

  3、全过程质量控制,确保产品的一致性。

  4、既具有砂轮等固结磨料的高磨削力特性,又能达到研磨液等游离磨料的抛光精度。

  具有较好的强度和柔韧性,能达到理想的曲面抛光效果

  5、适用于干态、湿态等多种抛光模式。

 

  产品粒度及规格:

磨料种类

金刚石(D)、碳化硅(SC)、氧化铝(AO)、氧化硅(SO)、氧化铈(CO)

目数

400

600

1200

1500

2000

3000

4000

6000

8000

10000

15000

粒径/um

45

30

15

12

9

6

3

2

1

0.5

0.3

研磨带宽度

1.2mm,1.6mm,2.0mm,2.5mm,3.0mm,3.2mm,3.8mm,5.0mm,12.6mm

研磨带宽度

45m、100m、183m、200m

  注:除以上规格外,可根据客户的需求定做各种规格产品。

 

  应用领域:

  1、微电机马达轴和换向器的抛光。

  2、金属辊、曲轴的精密抛光。

  3、光学镜头、光学晶体、LED、LCD的研磨抛光。

  4、磁头、硬盘的抛光。

  5、半导体材料(砷化镓、磷化铟等)的研磨抛光。

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